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Etablissement Université de Sétif 1 - Ferhat Abbas Affiliation Département de Physique Filière Physique Diplôme Magister Titre Etude de Mixage Ionique du Système Ni/Si Mots clés Mixage ionique_ Système Ni-Si _ Technique RBS_ Couche mince Résumé L’étude de l’interaction métal-Silicium est d’une grande importance, particulièrement dans les application des siliciures dans la technologie des circuits intégrés. Le travail de recherche portera sur le système Ni-Si et consistera à étudier le phénomène de mixage des atomes de Ni et de Si induit à l’interface par bombardement ionique de faisceaux de gaz inerte tels que Ar+ et Kr+. L’analyse de mixage ionique du système Ni-Si sera effectuée à l’aide de la technique RBS ( Rutherford Backscatting Spectrometry) au prés de l’accélérateur VDG du CRNA. La nature de la structure des composes formes à l’interface seront également étudiées. * Equipements nécessaires : Système de déposition de couches minces Accélérateur de particules VDG Implanter d’ions Système de diffraction X. Statut Vérifié

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