001059462
100  $a20120423                 y50      
101  $afre
2001 $aCaractérisation des couches minces de nitrure de titane obtenus par P.V. D. diagnostic du plasma$bressource électronique
210  $aUniversité d'Oran1 - Ahmed Ben Bella : Département de Physique$cUniversité d'Oran1 - Ahmed Ben Bella$d2008
215  $a141F.$cILL. EN COUL$d30 cm
328 1$bMagister$cScience des matériaux$eDépartement de Physique , Université d'Oran1 - Ahmed Ben Bella$d2008
330  $aLes méthodes les plus récentes pour augmenter la durée de vie des outils et pour améliorer  la finition des pièces revêtues sont les dépôts de couches minces. Ces méthodes trouvent des applications toujours croissantes et des avantages significatifs à leurs utilisateurs. La première partie de cette étude a été consacrée à la caractérisation du plasma par une sonde de Langmuir ; Potentiel flottant,  potentiel plasma, température électronique, densité électronique, densité ionique  et longueur de Debye. Dans la seconde partie de cette étude des couches minces de TiN ont été élaborées par pulvérisation magnétron. L'influence de différents paramètres a été corrélée avec la structure cristalline, cette étude a été complétée par d'autres analyses ; Recuit  thermique, test d'usure et microdéroulage d'outils revêtus de TiN.
337  $a BIBLIOG.RESUME ET MOTS CLES.
610  $aTiN
610  $a Couches minces
610  $a Pulvérisation magnétron (PVD)
610  $a Contraintes
610  $aRecuit thermique
610  $a Usure et microdéroulage.
700  $aTAMACHA, nasreddine
701  $aArray
801 0$aDZ$bCERIST PNST
901$ac
990  $aTH2615