001016882
100  $a                         y50      
101  $afre
2001 $aEtude de l'effets barriére de diffusion à l'interface métal /silicium de couches minces métalliques préparées par voie électrochimique et par PVD sur des substrats Si ( 111 ) , Si ( 110 ) , Si ( 100 ) $bressource électronique
210  $aUniversité de Sétif 1 - Ferhat Abbas : Département de Génie des Procédés$cUniversité de Sétif 1 - Ferhat Abbas
328 1$bMagister$cGénie des procèdes$eDépartement de Génie des Procédés , Université de Sétif 1 - Ferhat Abbas
610  $aPVD , Silicium , silicides , thin films , diffusion 
700  $aDJOUDI, adlen
701  $aArray
801 0$aDZ$bCERIST PNST
901$ac